端点星日志
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逆光刻技术的演进：算法、全芯片计算与掩模制造
综述逆掩模设计、连续松弛、水平集和全芯片计算的发展，分析算法、工艺窗口与掩模制造的耦合约束。
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OPC 的掩模表示：边段、像素与隐式边界
比较边段、像素、水平集与显式曲线的掩模表示，分析灵敏度、梯度计算、非凸性及全芯片制造验证。
综述逆掩模设计、连续松弛、水平集和全芯片计算的发展，分析算法、工艺窗口与掩模制造的耦合约束。
比较边段、像素、水平集与显式曲线的掩模表示，分析灵敏度、梯度计算、非凸性及全芯片制造验证。