端点星日志

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光学成像3 建模与校准4 掩模工艺1 计算光刻6

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2026 13 篇

  1. TCC 与 SOCS：部分相干成像的低秩表示及全芯片计算
  2. 光刻模型的物理近似与参数校准
  3. 水平集逆光刻：形状导数、界面演化与制造约束
  4. 曲线掩模的表示、制造与精度控制
  5. 计算光刻模型的建立：实验设计、参数辨识与验证
  6. OPC、ILT 与 SMO 的变量、约束及求解范围
  7. 源—掩模协同优化：目标函数、算法与工程约束
  8. 从掩模到晶圆：光刻前向模型与误差传播
  9. 部分相干成像与照明角谱
  10. 空中像与边缘敏感度：阈值模型、NILS 和工艺窗口
  11. 光刻成像的空间频率响应
  12. 计算光刻的反问题：成像带宽、邻近效应与工艺窗口
  13. 逆光刻技术的演进：算法、全芯片计算与掩模制造

2025 1 篇

  1. OPC 的掩模表示：边段、像素与隐式边界

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